UV Härtungslampe für großformatig

Thu, 25 Jun 2026 10:39:37 +0800

Die Hochschicht-Siebdruckmethode versagt in der Praxis. Es entstehen Löcher auf der Oberfläche sowie eine unvollständige Aushärtung in der Basisschicht – selbst dann, wenn die Lampe eingeschaltet ist und die Druckleistung in Ordnung zu sein scheint. Das Problem liegt einfach in den physikalischen Gesetzen: Die herkömmliche Breitbandspektren-Strahlung kann nicht durch dicke Pigment- und Gelsschichten hindurchdringen, um eine vollständige Verklebung der Schichten zu bewirken.

Was technisch wirklich wichtig ist
Bei der Hochschicht-Aushärtung geht es um die Penetration der Photonen sowie um die erreichte Energiedichte. Wir passen das Spektrum der Lampe so an, dass die tief eindringenden Wellenlängen – 365 nm und 385 nm – genutzt werden können. Dadurch können die Photoinitiatoren in den dünnen Schichten effektiv angeregt werden. Die maximale Strahlungsintensität auf der Substratoberfläche liegt bei über 1,5 W/cm². Das System kann dabei 800–1200 mJ/cm² an Energie in dünnen Schichten bereitstellen. Ein hochreflektierender Diphotoreflektor sorgt dafür, dass die Strahlung nach unten konzentriert wird. Zudem sorgen das Quarzfenster sowie das ozeangefreie Design dafür, dass der Strahl stabil und rein bleibt.

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UV Härtungslampe für großformatig