<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Napięcie on UV Curing China</title>
		<link>http://uv-curing-china.com/pl/tags/napi%C4%99cie/</link>
		<description>Recent content in Napięcie on UV Curing China</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>pl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 28 Jun 2026 10:16:19 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-curing-china.com/pl/tags/napi%C4%99cie/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Żarówka UV na rtęci o wysokim napięciu</title>
				<link>http://uv-curing-china.com/pl/posts/high-voltage-mercury-uv-lamp/</link>
				<pubDate>Sun, 28 Jun 2026 10:16:19 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-curing-china.com/pl/posts/high-voltage-mercury-uv-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-curing-china.com/images/073c64da7862620d00d3df08d4a4560d.jpg&#34; alt=&#34;Żarówka UV na rtęci o wysokim napięciu&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na maszynie do drukowania etykiet w technologii flexo, przy prędkości 150 m/min, nierównomierny wynik działania lampy UV nie tylko obniża szybkość drukowania. Skutkuje to problemami w jakości wydruku – rozmyciem krawędzi, nadmiernym nanieczyszczeniem powierzchni oraz migracją tuszu na wrażliwych podłożach, których używamy codziennie. Najczęściej przyczyną jest degradacja lampy: jej wydajność zmienia się wraz z upływem czasu, kwarcowe osłony stają się mętne, a reflektory tracą swoje właściwości odbijające światło.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Co naprawdę ma znaczenie?&lt;/strong&gt;&#xA;Tworzymy lampy UV na bazie rtęci pod wysokim ciśnieniem, przeznaczone do użytku przemysłowego, a nie do badań laboratoryjnych. Wyzwalacz elektryczny jest tak dostrojony, aby spektrum promieniowania pozostawało stabilne w przedziale 365 nm – tam większość tuszów i powłok UV dobrze absorbuje światło. Maksymalna intensywność promieniowania wynosi ponad 2,000 mW/cm², co zapewnia energię potrzebną do pełnego utwardzenia materiału (zwykle 300–600 mJ/cm²). Reflektor pokryty dielektrykiem skupia światło w tym przedziale, a także redukuje ilość marnowanego ciepła, dzięki czemu utwardzanie odbywa się szybciej, bez uszkodzenia cienkich warstw materiału.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
